ultrafiltración sistema DEV


Tecn.A. DEV
Instalaciónes de ultrafiltración para la regeneración de las
soluciones gastadas de fotoresist en los procesos de soldermask

Una aplicación muy importante propuesta por TECN.A. en la industria de los circuitos impresos utilizando membranas de ultrafiltración para la regeneración de las soluciones concentradas y gastadas en los procesos de los revelados y stripper de fotoresist y soldermask.

La ultrafiltración es un proceso de filtración física por medio de membranas específicas, que permiten separar el fotoresist disuelto en las soluciones de revelado y stripper.

TECN.A. ha desarrollado dos líneas de productos para ofrecer las soluciones de tratamiento:

EL PROCESO DE ULTRAFILTRACIÓN

La reacción de los revelados puede ser representada por:
Na2CO3+R-COOH=NaHCO3+NaOOCR
La membrana de ultrafiltración separa la molécula NaOOCR de los iones HCO3-/CO3 -- quedando disponibles para su reutilización, permitiendo la recuperación de al menos un 90% de las soluciones de revelado.
El sistema TECN.A. UF-DEV reconvierte en continuo, los bicarbonatos en carbonatos, manteniendo constante la concentración de la solución.

VENTAJAS


Conexión directa UF -  reveladora

TECN.A. DEV - modelo 10TA


Detalles del sistema 
de limpieza automática

Detalles del sistema de lavado automático

MODELO

CAPACITAD

DEV 10TA

200 lt/h

DEV 2X10TA

400 lt/h

DEV 3X10TA

600 lt/h

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