|
Una aplicaci贸n muy importante propuesta por TECN.A. en la industria de los circuitos impresos utilizando membranas de ultrafiltraci贸n para la regeneraci贸n de las soluciones concentradas
y gastadas en los procesos de los revelados y stripper de fotoresist y soldermask.
 La ultrafiltraci贸n es un proceso de filtraci贸n f铆sica por medio de membranas
espec铆ficas, que permiten separar el fotoresist disuelto en las soluciones de revelado y stripper.
TECN.A. ha desarrollado dos l铆neas de productos para ofrecer las soluciones de tratamiento:
- TECN.A. UF-DEV para los procesos de revelado
- TECN.A. UF-STRIP para los procesos de stripper.
EL PROCESO DE ULTRAFILTRACI脫N
La reacci贸n de los revelados puede ser representada por:
Na2CO3+R-COOH=NaHCO3+NaOOCR
La membrana de ultrafiltraci贸n separa la mol茅cula NaOOCR de los iones HCO3-/CO3 -- quedando disponibles para su reutilizaci贸n, permitiendo la
recuperaci贸n de al menos un 90% de las soluciones de revelado.
El sistema TECN.A. UF-DEV reconvierte en continuo, los bicarbonatos en
carbonatos, manteniendo constante la concentraci贸n de la soluci贸n.
VENTAJAS
- Break point constante
- Alta definici贸n de las pistas durante el revelado
- Considerable disminuci贸n del mantenimiento de la reveladora, en cuanto utilizaci贸n de soluciones siempre limpias (ultrafiltradas)
- Notables mejoras medioambientales.
|
