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Une application très intéressante, que TECN.A. propose, est l’utilisation de membrane d’ultrafiltration pour la régénération des solutions concentrées de stripage et de
développement du photoresist ou de masque de soudure dans l’industrie du circuit imprimé.
 L'ultrafiltration est un procédé de filtration physique qui permet, au moyen d’une
membrane spécifique, de séparer le photoresist dissous de la solution de développement/stripage
La TECN.A. a développé deux lignes de produits pour fournir la meilleure solution de traitement
- TECN.A. UF-DEV pour le procédé de développement
- TECN.A. UF-STRIP pour le procédé de stripage
LE PROCEDE D’ULTRAFILTRATION
La réaction de développement peut être présentée ainsi:
Na2CO3 + R-COOH =NaHCO3 + NaOOCR
La membrane d’ultrafiltration sépare la molécule de NaOOCR des ions HCO3
-/CO3 -- les rendant disponibles pour leur réutilisation, avec un taux de récupération d’au moins 90 % de la solution de développement.
Le système TECN.A. UF-DEV reconverti de manière continue le bicarbonate en carbonate tout en maintenant constante la concentration de la solution.
AVANTAGES
- Break point constant
- Haute définition de la piste durant le développement
- Diminution considérable de la maintenance de la machine puisque la solution est toujours propre (ultra filtrée)
- Avantage environnemental important
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