système DEV


Tecn.A. DEV
Implantations d’Ultrafiltration pour régénérer 
les solutions chargées de photoresist et de photo-imageable

Une application très intéressante, que TECN.A. propose, est l’utilisation de membrane d’ultrafiltration pour la régénération des solutions concentrées de stripage et de développement du photoresist ou de masque de soudure dans l’industrie du circuit imprimé.

L'ultrafiltration est un procédé de filtration physique qui permet, au moyen d’une membrane spécifique, de séparer le photoresist dissous de la solution de développement/stripage

La TECN.A. a développé deux lignes de produits pour fournir la meilleure solution de traitement

LE PROCEDE D’ULTRAFILTRATION

La réaction de développement peut être présentée ainsi: 
Na2CO3 + R-COOH =NaHCO3 + NaOOCR
La membrane d’ultrafiltration sépare la molécule de NaOOCR des ions HCO3 -/CO3 -- les rendant disponibles pour leur réutilisation, avec un taux de récupération d’au moins 90 % de la solution de développement.
Le système TECN.A. UF-DEV reconverti de manière continue le bicarbonate en carbonate tout en maintenant constante la concentration de la solution.

AVANTAGES


Connexion directe UF-développeuse

TECN.A. DEV - modèle 10TA


Détail du système 
de nettoyage à balle automatique

Détail du système  de lavage automatique

MODÈLE

CAPACITÉ

DEV 10TA

200 lt/h

DEV 2X10TA

400 lt/h

DEV 3X10TA

600 lt/h

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