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Un’applicazione molto importante che la TECN.A. propone all’industria dei Circuiti Stampati è rappresentata dall’utilizzo di membrane di ultrafiltrazione per la rigenerazione delle
soluzioni concentrate esauste dei processi di sviluppo e strippaggio fotoresist e soldermask.
 L’Ultrafiltrazione è un processo di filtrazione fisica per mezzo di membrane
specifiche che permettono di separare il fotoresist disciolto dalla soluzione di sviluppo/strippaggio.
La TECN.A. ha sviluppato due linee di prodotti per fornire la migliore soluzione di trattamento:
- Tecn.A UF-DEV per i processi di sviluppo
- Tecn.A UF-STRIP per i processi di strippaggio
IL PROCESSO DI ULTRAFILTRAZIONE
La reazione di sviluppo può essere rappresentata come:
Na2CO3 + R-COOH =NaHCO3 + NaOOCR
La membrana di ultrafiltrazione separa la molecola NaOOCR dagli ioni HCO3
-/CO3-- rendendoli disponibili per il loro riutilizzo, consentendo un recupero di almeno il 90 % della soluzione di sviluppo.
Il sistema Tecn.A UF-DEV riconverte in maniera continua i bicarbonati in carbonati, mantenendo costante la concentrazione della soluzione.
VANTAGGI
- Break point costante
- Alta definizione delle piste durante lo sviluppo
- Considerevole diminuzione di manutenzione sulla sviluppatrice, in quanto la soluzione è sempre pulita (ultrafiltrata)
- Notevoli vantaggi ambientali
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